Découvrez le plasma : Révolutionnez le traitement de surface pour des résultats éblouissants !
Le traitement de surface pour des résultats incroyables ! Dans un monde industriel en perpétuelle…
Des solutions sur mesure pour des surfaces de haute précision. Découvrez le traitement de plasma sous vide !
Depuis plusieurs années, nous mettons notre savoir-faire au service de l’industrie pour proposer des solutions performantes et adaptées à vos besoins en traitement de surface par plasma.
Nous proposons des équipements neufs, des solutions de location, la maintenance ainsi que la fourniture de pièces détachées et d’accessoires (pompes à vide, détendeurs, connexions de vide).
Notre objectif est de rendre accessible des équipements de haute technologie en garantissant un excellent rapport qualité-prix.
Nous accompagnons nos clients avec un service réactif et un support technique expert pour une utilisation optimale de nos solutions.
Dimension de la chambre : Ø105 X L300 MM
Matériau de la chambre : Quartz (Haute résistance thermique et chimique)
Volume de la chambre : Approx 2.6L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 150 / 200 / 300W
Distribution des gaz : 2 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : Plateau central amovible
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Dimension de la chambre : P300 mm x L130 mm x H130 mm
Matériau de la chambre : Acier inoxydable
Volume de la chambre : Approx 6L
Générateur plasma : LF 100 KHz – 1000W
Distribution des gaz : 2 à 4 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : Plateau central amovible
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Référence 3 : DTS 10.7L
Dimension de la chambre : Ø215 X L300 mm & P330 mm x L180 mm x H180 mm
Matériau de la chambre : Quartz & Acier inoxydable
Volume de la chambre : Approx 10.7L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 150 / 200 / 300W & LF 100 KHz – 1000W
Distribution des gaz : 2 à 4 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : 1 à 2 Plateaux amovibles
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Dimension de la chambre : P260 mm x L240 mm x H240 mm
Matériau de la chambre : Acier inoxydable
Volume de la chambre : Approx 15L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 300W & LF 100 KHz – 1000W
Distribution des gaz : 2 à 4 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : 1 à 2 Plateaux amovibles
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Dimension de la chambre : P440 mm x L250 mm x H250 mm
Matériau de la chambre : Acier inoxydable
Volume de la chambre : Approx 27.5L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 300W & LF 100 KHz – 1000W
Distribution des gaz : 2 à 4 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : 1 à 4 Plateaux amovibles
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Dimension de la chambre : P350 mm x L320 mm x H320 mm
Matériau de la chambre : Acier inoxydable
Volume de la chambre : Approx 35L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 300W & LF 100 KHz – 1000W
Distribution des gaz : 2 à 4 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : 1 à 4 Plateaux amovibles
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Dimension de la chambre : P585 mm x L320 mm x H320 mm
Matériau de la chambre : Acier inoxydable
Volume de la chambre : Approx 60L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 600W & LF 100 KHz – 1000W
Distribution des gaz : 2 à 4 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : 1 à 5 Plateaux amovibles
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Référence 8 : DTS 80L
Dimension de la chambre : P500 mm x L420 mm x H400 mm
Matériau de la chambre : Acier inoxydable
Volume de la chambre : Approx 80L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 600W & LF 100 KHz – 1000W
Distribution des gaz : 2 à 4 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : 1 à 6 Plateaux amovibles
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Référence 9 : DTS 120L
Dimension de la chambre : P450 mm x L500 mm x H500 mm
Matériau de la chambre : Acier inoxydable
Volume de la chambre : Approx 120L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 1000W & LF 100 KHz – 1000W
Distribution des gaz : 2 à 4 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : 1 à 10 Plateaux amovibles
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Référence 10 : DTS 150L
Dimension de la chambre : P600 mm x L500 mm x H500 mm
Matériau de la chambre : Acier inoxydable
Volume de la chambre : Approx 150L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 1000W & LF 100 KHz – 1000W
Distribution des gaz : 2 à 4 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : 1 à 15 Plateaux amovibles
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Référence 11 : DTS VGB 2.6L
Dimension de la chambre : Ø105 X L300 MM
Matériau de la chambre : Quartz (Haute résistance thermique et chimique)
Volume de la chambre : Approx 2.6L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 150 / 200 / 300W
Distribution des gaz : 2 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : Plateau central amovible
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Référence 12 : DTS VGB 3.8L
Dimension de la chambre : Ø155 X L200 MM
Matériau de la chambre : Quartz (Haute résistance thermique et chimique)
Volume de la chambre : 3.8L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 150 / 200 / 300W
Distribution des gaz : 2 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : Plateau central amovible
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Référence 13 : DTS VGB 10.8L
Dimension de la chambre : Ø215 X L300 mm
Matériau de la chambre : Quartz
Volume de la chambre : 10.8L
Générateur plasma : RF 13.56 MHz – 150 / 200 / 300W
Distribution des gaz : 2 MFC (Mass Flow Controller – Contrôleur de débit massique)
Interface utilisateur : Écran tactile 7 pouces en français et anglais, entièrement paramétrable, permettant une gestion à la fois manuelle et automatique des cycles de traitement. Cette interface flexible assure un contrôle intuitif et précis du processus (Entrée des gaz et leur débit, pression de travail, temps de traitement, puissance du générateur, alarmes et réglages du système)
Support échantillon : Plateau central amovible
Système de vide : Spécifications sur demande (type de pompe, débit, niveau de vide)
Le plasma sous vide est un état de la matière ionique où les gaz sont soumis à une décharge électrique et à l’ionisation dans un réacteur en ambiance sous-pression (ou basse pression). Ainsi, cela crée un gaz conductif d’électrons et d’ions (ion). En conséquence, cette technologie plasma est utilisée pour modifier les propriétés de surface des substrats, telles que l'adhérence, la résistance à la corrosion, ou encore la conductivité.
Le substrat (polymère, métallique, organique) est placé dans le réacteur sous-pression (ou basse pression), où un gaz noble (comme l’argon ou l’azote) est introduit par injection et subit une ionisation via un champ électrique (ou une décharge électrique entre les électrodes). Ainsi, le plasma plasmique généré interagit avec la surface du matériau, modifiant ses propriétés tout en préservant son volume. C’est un traitement de surfaces non thermique (hors cas spécifiques de projection plasma à haute température).
Ce système de traitement permet de modifier les surfaces de manière précise et contrôlée via des réactions chimiques ou une oxydation ciblée, sans recourir à des produits chimiques nocifs. De plus, il peut être appliqué à divers substrats, tels que les métalliques, polymères (plastiques) ou céramiques. En conséquence, il améliore l'adhésion, la durabilité et la résistance à l'usure.
Le plasma est utilisé dans de nombreuses industries, telles que l'automobile, l'électronique, l'aéronautique et la biomédicale. En effet, il permet d'améliorer les propriétés des substrats, notamment la finition de surface, le dépôt de couches minces (par exemple d’oxyde ou par polymérisation) et le traitement de surfaces pour le nettoyage. (Le cas de la projection plasma ou du plasma riche en plaquettes est spécifique et ne s'applique pas aux systèmes de traitement sous-pression conventionnels).
Oui, le plasma est considéré comme respectueux de l'environnement, car, contrairement à d'autres techniques de traitement de surfaces, il ne nécessite pas de produits chimiques nocifs. De plus, il génère moins de déchets, ce qui en fait une alternative plus écologique.
Les applications incluent, par exemple, la fabrication de dispositifs électroniques, le traitement de surfaces de matériaux polymères (plastiques) ou de résines, ainsi que la production de couches anti-corrosion pour les métalliques. De plus, elles comprennent également l'amélioration de l'adhésion des peintures et des colles sur le substrat.
Oui, en effet, le plasma sous vide peut traiter des objets de formes complexes grâce à son caractère tridimensionnel. De plus, il permet de cibler des zones spécifiques de la surface.
Le temps de traitement de surfaces varie en fonction de l'application, de la taille de l'objet et des paramètres du plasma. Cependant, il est généralement rapide, allant de quelques minutes à quelques heures.
Non, le plasma sous vide affecte principalement la surface du matériau (substrat), sans altérer ses propriétés internes (thermiques, structure), car il s’agit d’un plasma.
Oui, le plasma sous vide est couramment utilisé pour le dépôt de revêtements fins, tels que des couches de matériaux métalliques ou d'oxyde de céramique, afin d'améliorer la résistance à l'usure ou la conductivité (par polymérisation ou PECVD).
Oui, il est très efficace pour traiter les polymères (plastiques), notamment en améliorant leur adhésion à d'autres matériaux, en activant leur surface ou en les rendant plus résistants à l'abrasion.
Oui, les paramètres tels que la basse pression (ou sous-pression), la puissance et le type de gaz (argon, azote, ou autres gaz noble) peuvent être ajustés dans le réacteur, permettant ainsi d'obtenir des résultats spécifiques en fonction des besoins de chaque système de traitement. (Cette personnalisation s’oppose au traitement à pression atmosphérique ou à haute température comme la projection plasma).
Notre plasma sous vide est couvert par une garantie d’une durée de 1 an, incluant les pièces et la main-d’œuvre. En outre, cette garantie vous assure une tranquillité d’esprit, en vous offrant une prise en charge rapide en cas de défaut de fabrication ou de dysfonctionnement.
Oui, nous proposons des services de maintenance et de réparation pour assurer le bon fonctionnement et la longévité de votre équipement. En outre, nos techniciens qualifiés sont à votre disposition pour des interventions préventives ou correctives, garantissant ainsi un entretien optimal de votre matériel.
Oui, nous mettons à disposition des certifications et des fiches techniques pour nos produits. En effet, ces documents vous apportent toutes les informations nécessaires sur leurs caractéristiques, performances et conformités aux normes en vigueur, assurant ainsi une totale transparence et une confiance accrue dans nos solutions.
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